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真空主動隔振平臺ZVI-VB系列
產品簡介

真空主動隔振平臺ZVI-VB系列,可以在真空環境下使用的主動隔振平臺、能更好適配真空實驗場景。

產品型號:
更新時間:2025-07-02
廠商性質:生產廠家
訪問量:1388
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真空主動隔振平臺ZVI-VB系列

特點

  • 空氣彈簧支撐,磁負剛度機構

  • 機械式倒立擺負剛度機構并聯正剛度機構

  • 適用1E-4Pa的真空環境

  • 6自由度主動隔振

  • 主動隔振帶寬低至0.5Hz起

  • 標品負載最大支持7000KG

  • 水平向電機峰值推力高達160N

  • 總體規格(長、寬、高)多種規格可選

  • 核心控制系統全部自研

  • 核心部件國產化

技術指標

  • 主動隔振帶寬:0.5-150Hz

  • 臺面穩定性:≤±5um

  • 傳遞率:≤-20dB@2Hz,≤-35dB@5Hz,≤-50dB@10Hz

  • 水平向電機峰值推力高達270N

  • 系統支持最大功率400W

  • 臺面平面度:NTBP:0.02-0.05mm/600mm ×600mm

                      NTBK:0.1mm/600mm×600mm

                      大理石臺面:0級、1級、2級、3級可選(GB/T20428-2006)

  • 臺面厚度:100/200/300mm

  • 孔徑:可定制孔徑

  • 孔距:可定制孔距或特殊位置打孔

  • 標品單腿最大承載能力:1800Kg

真空主動隔振平臺ZVI-VB系列命名規則

真空主動隔振平臺ZVI-VB系列

選型表:(M、K、P參考具體臺面信息)

產品型號

整體規格(L*W:mm)

臺面上負載要求(kg)

臺面厚度(mm)

隔振器規格

(L*W*H:mm)

單腿重量

ZVI-VB-30-15M

3000×1500

100-2000

400

1060×900×202

40kg

尺寸圖:

真空主動隔振平臺ZVI-VB系列

型號

尺寸( mm)

L

W

T

H1

H2

ZVI-VB-30-15M

3000

1500

400

900

500

相關案例:

真空主動隔振平臺ZVI-VB系列

  • 光刻機:確保光刻膠的精確涂布和曝光。

真空主動隔振平臺ZVI-VB系列

  • 刻蝕設備:在納米精度上進行精確加工,確保芯片電路的完整性。

真空主動隔振平臺ZVI-VB系列

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